机！”韩文昌很肯定的点了点头。

光刻，或者说微影是半导体工艺中非常关键的一道程序。在一个小小的芯片上，集成数以亿计的芯片离不开光刻技术。

“你们华新对光学还有研究？”

“这个到没有，只是有一次我跟倪老谈到了光刻的问题，我们都认为按照摩尔定律，过不了几年，现在的光刻技术就会遇到瓶颈，从而导致摩尔定律失效。”韩文昌解释道。

韩老点了点头。

所谓摩尔定律就是:当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。

但这离不开光刻技术的发展。

想在同样大小的一块硅晶上放入更多的元器件，就需要更加精细的光刻技术，从第一颗130纳米制成，到现在486所使用的90纳米，都是依靠光刻机才能实现这些微型电子元件，置入芯片当中。

这当然是有个极限的。

想要让摩尔定律继续起作用，那么光刻技术就比许快速向前发展。

现在主流的光刻机技术大概就能支持到65纳米的节点，想要更进一步就需要新的光刻机技术来推进的发展。

“英特尔并生活光刻机。”

“光刻机可是英特尔上游必备的生产机器，我相信英特尔会对我们的研究感兴趣的。”韩文昌自信满满的说道。'
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